@Air Compressor
2025-04-16

¿Puede la oblea entrar en contacto con el aire comprimido?

La oblea durante la fabricaciónEl contacto directo con el aire comprimido ordinario debe evitarse.Se requiere aire comprimido limpio y estrictamente tratado. Las siguientes son las razones específicas y las especificaciones:

¿Por qué no puedes entrar en contacto con el aire comprimido normal?

  1. Riesgo de contaminación
  • Contaminación de aceiteEl aire comprimido común puede contener oligoelementos de aceite, incluso una pequeña cantidad se adhiere a la superficie de la oblea, lo que afecta la adhesión de la resistencia y la precisión del patrón de circuito.
  • condensación de aguaEl aire comprimido no seco se condensa fácilmente en agua en tuberías de baja temperatura, lo que resulta en la humedad de la oblea o la corrosión del equipo.
  • Grano ScratchPartículas sólidas como polvo y chatarra pueden rayar la superficie de la oblea y causar defectos irreversibles.
  1. Efecto del proceso
  • Deterioro de la precisión litográficaLas impurezas pueden contaminar la máscara fotolitográfica, lo que resulta en una desviación de la replicación del patrón del chip.
  • La uniformidad del grabado se deterioraLos gases impuros cambian las condiciones de reacción química de grabado y afectan el control del borde de la línea.
  • Concentración de dopaje fluctuanteLas impurezas interfieren con el proceso de dopaje, lo que resulta en un rendimiento inconsistente del transistor.
  1. Equipo dañado
  • Corrosión de piezas de precisiónEl aire comprimido que contiene gases corrosivos acelera el envejecimiento del equipo.
  • Pipa bloqueadaLas partículas pueden bloquear las boquillas de gas o las bombas de vacío, aumentando el riesgo de parada.

Especificaciones para el uso de aire comprimido limpio

  1. Requisitos de grado de calidad
  • Sin aceiteResiduo de aceite ≤ 0,01 mg / m3 (algunos requisitos de proceso ≤ 0,1 ppm).
  • Grado de secedadPunto de rocío de presión ≤ -40 °C (parte de la tecnología debe ser ≤ -70 °C).
  • Filtración de partículasEficiencia de filtración de partículas ≥ 0,01 μ m ≥ 99,995%.
  • Estabilización de presiónEl rango de fluctuación se controla dentro de ± 0.01 MPa.
  1. Diseño del sistema de suministro
  • Cámara de suministro de aire independienteEl generador de aire comprimido debe ser independiente de la sala limpia para evitar la radiación térmica y la vibración.
  • Filtración multietapaEl separador de aceite y agua, el adsorbente de carbón activado y el filtro de ultraprecisión se configuran secuencialmente.
  • Pipa de materialUtilice acero inoxidable 316L o tubería de pulido electrolítico de pared interna para reducir la descamación de partículas.
  1. Uso de restricciones de escenarios
  • Prohibición de contacto directoEn la transferencia y la limpieza de la oblea, el aire comprimido solo se utiliza para la conducción del equipo (como el cilindro), sin contacto directo con la oblea.
  • Protección positivaMantenga una presión positiva en la sala limpia para evitar la infiltración de aire exterior.

III. Opciones alternativas y medidas de emergencia

  1. Sustitución del nitrógenoEl uso de nitrógeno de alta pureza en los pasos críticos del proceso, como la transferencia de obleas, es más costoso pero más seguro.
  2. Método de prueba de fluoroaceiteEn el enlace de prueba de alta presión, el aceite de fluoro se empapa en lugar del aislamiento de aire comprimido, y el aceite de fluoro se volatiliza fácilmente sin residuos después de la prueba.
  3. Protección electrostáticaSi se debe purgar el equipo con aire comprimido, la electricidad estática debe eliminarse primero mediante un dispositivo de ionización.

ConclusionesLa fabricación de obleas es extremadamente exigente con respecto a la calidad del aire comprimido. Las impurezas en el aire comprimido ordinario pueden conducir directamente a la oblea o al fallo del equipo. Los compresores de aire sin aceite, el sistema de filtración de varias etapas y el estricto control del punto de rocío garantizan que el aire comprimido cumpla con el estándar de Clase 1 (ISO 8573-1) para satisfacer los requisitos del proceso de semiconductores.

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